特種氣體是由兩大類氣體組成的。

  一類為單元高純氣體，另一類為混合氣體。

  到目前為止，特種氣體中單元純氣體共有260種。
  其中：

  電子氣體共114種，占總數(shù)的43.8%（實際常用的約44種）；

  有機氣體共65種，占總數(shù)的25%;

  無機氣體共35種，占總數(shù)的13.4%;

  鹵碳素氣體共29種，占總數(shù)的11%;

  同位素氣體共17種，占總數(shù)的6.8%。

  本文專門介紹這260種單元高純特種氣體的用途。

  1.氮氣-N2,純度要求>99.999%,用作標準氣、在線儀表標準氣、校正氣、零點氣、平衡氣；用于半導體器件制備

  工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入、等離子干刻、光刻、退火、搭接、燒結(jié)等工序；電器、食品包裝

  、化學等工業(yè)也要用氮氣。

  2.氧氣-O2,>99.995%,用作標準氣在線儀表標準氣、校正氣、零點氣；還可用于醫(yī)療氣；在半導體器件制備工藝

  中用于熱氧化、擴散、化學氣相淀積、等離子干刻等工序；以及用于光導纖維的制備。

  3.氬氣-Ar,>99.999,用作標準氣、零點氣、平衡氣；用于半導體器件制備工藝中晶體生長、熱氧化、外延、擴散

  、氮化、噴射、等離子干刻、載流、退火、搭接、燒結(jié)等工序；特種混合氣與工業(yè)混合氣也使用氫。

  4.氫氣-H2,>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、在線儀表標準氣；在半導體器件制備工藝中用于

  晶休生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等工序；在化學、冶金等工業(yè)中也有用

  。

  5.氦氣-He,>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、醫(yī)療氣；于半導體器件制備工藝中晶體生長、等

  離子干刻、載流等工序；另外，特種混合氣與工業(yè)混合氣也常用。

  6.氯氣-Cl2,>99.96%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、熱氧化等工序

  ；另外，用于水凈化、紙漿與紡織品的漂白、下業(yè)廢品、污水、游泳池的衛(wèi)生處理；制備許多化學產(chǎn)品。

  7.氟氣-F2,>98%,用于半導體器件制備工藝中等離子干刻；另外，用于制備六氟化鈾、六氟化硫、三氟化硼和金屬

  氟化物等。

  8.氨氣-NH3,>99.995%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用于半導體器件制備工藝中氮化工序；另外，用

  于制冷、化肥、石油、采礦、橡膠等工業(yè)。

  9.氯化氫-HCI,>99.995%,用作標準氣；用于半導體器件制備工藝中外延、熱氧化、擴散等工序；另外，用于橡膠

  氯氫化反應中的化學中間體、生產(chǎn)乙烯基和烷基氯化物時起氧氯化作用。

  10.一氧化氮-NO,>99%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積主序；制備監(jiān)控大氣污染

  的標準混合氣。

  11.二氧化碳-CO2,>99.99%,用作標準氣、在線儀表標推氣、校正氣；于半導體器件制備工藝中氧化、載流工序警

  另外，還用于特種混合氣、發(fā)電、氣體置換處理、殺菌氣體稀釋劑、滅火劑、食品冷凍、金屬冷處理、飲料充氣

  、煙霧噴射劑、食品貯存保護氣等。

  12.氧化亞氮-N2O,（即笑氣），>99.999%,用作標準氣、醫(yī)療氣；用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積、醫(yī)月麻

  醉劑、煙霧噴射劑、真空和帶壓檢漏；紅外光譜分析儀等也用。

  13.硫化氫-H2S,>99.999%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻，化學工業(yè)中用于制備硫

  化物，如硫化鈉，硫化有機物；用作溶劑；實驗室定量分析用。

  14.四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作標準氣；用于半導體器件制備工藝中外延丫、化學氣相淀積等工序；另外，用作

  溶劑、有機物的氯化劑、香料的浸出劑、纖維的脫脂劑、滅火劑、分析試劑、制備氯仿和藥物等。

  15.氰化氫-HCN,>99.9,用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序；制備氫氰酸溶液，金屬氰化物、氰氯化物；

  也用于制備丙烯睛和丙烯衍生物的合成中間體。

  16.碳酰氟-COF2,>99.99%,用于半尋體器件制備工藝中等離子干刻工序；另外，用作氟化劑。

  17.碳酰硫-COS,>99.99%,用作校正氣；用于半導體器件制備工藝中離子注入工序；也用于有些羧基、硫代酸、硫

  代碳酸鹽和噻唑的合成，2-氯代丙酰氯。

  18.碘化氫-HI,>99.95%,用于半導體器件制備工藝中離子注入工序；還用于氫碘酸溶液制備。

  19.嗅化氫-HBr,>99.9%,用于半導體制備工藝中等離子干刻工序；用作還原劑，制備有機及無機澳化合物。

  20.硅烷-SiH4,>99.999%,電阻率>100Ω/cm2,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積等工序。

  21.乙硅烷-Si2H6,>99.9%,用于半導體制備工藝中化學氣相淀積。

  22.磷烷-PH3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入等工序；磷烷與二氧

  化碳混合的低濃度氣體，可用于殺死糧倉的蟲卵和制備阻火化合物。

  23.砷烷-AsH3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入等工序。

  24.硼烷-B2H6,>99.995%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、氧化等工序；用于有些化學工業(yè)合成過程：如

  氫硼化反應（即生成醇類），有機功能的衰退，制備較高的硼烷衍生物和碳甲硼烷化合物。

  25.鍺烷-GeH4,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、離子注入工序。

  26.銻烷-SbH3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、離子注入工序。

  27.四氧甲硅烷-Si（OC2H5）4,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序。

  28.乙烷-C2H6,>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序；

  還用于冶金工業(yè)的熱處理，化學工業(yè)中制備乙醇、氧化乙二醇、氯乙烯、高醇類、乙醛等。

  29.丙烷-C3H8,>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序；

  另外，用于燃料、冷凍劑、制備乙烯與丙烯的原料。

  30.硒化氫-H2Se,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。

  31.碲化氫-H2Te,>99,999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。

  32二氯二氫硅-SiH2Cl2,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。

  33.三氯氫硅-SiHCl3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。

  34.二甲基碲-（CH3）2Te,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。

  35.二乙基碲-（C2H5）2Te,>99.999%,用途同（34）。

  36.二甲基鋅（CH5）2Zn,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序。

  37.二乙基鋅（C2H5）2Zn,>99.999%,用途同（36）。

  38.三氯化磷-PCl3,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中擴散，鍺的外延生長和離子注入工藝；PCl3是有機物的良

  好氯化劑；也用于含磷有機物的合成。

  39.三氯化砷-AsCl3,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中的外延和離子注入。

  40.三氯化硼-BCl3,>99.99%,用于等離子干刻、擴散；作硼載氣及一些有機反應的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅

  合金時從溶化金屬中除掉氮、碳、氧化合物。

  41.四氯化硅-SiCl4,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。

  42.四氯化錫-SnCl4,>99.99%,用于外延、離子注入。

  43.四氯化鍺-GeCl4,>99.999%,用于離子注入。

  44.四氯化欽-TiCl4,>99.99%,用于等離子干刻。

  45.五氯化磷-PCl5,>99.99%,用于外延、離子注入。

  46.五氯化銻-Sb=Cl5,>99.99%,用于外延、離子注入。

  47.六氯化鑰-MoCl6,>99.9%,用于化學氣相淀積。

  48.三嗅化硼-BBr3,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中離子注入工序和制備光導纖維。

  49.三嗅化磷-PBr3,>99.99%,用于外延、離子注入。

  50.磷酞氯-POCI3,>99.999%,用于擴散工序。

  51.三氟化硼-BF3,>99.99%,用于離子注入；另外，可作載氣、某些有機反應的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅合金

  時從熔化金屬中除掉氮、氧、碳化物。

  52.三氟化磷-PF3,>99%,用于外延、離子注入工序；另外用作氟化劑。

  53.三氟化砷-AsF3,>99.9%,用途同（52）。

  54.二氟化氨-XeF2,>99.9%,用于外延、離子注入工序；用于固定模具氨的考察及原子反應堆排放廢氣中氮的測定

  。

  55.三氟氯甲烷-CClF3,（R-13），>99.995%,用于等離子干刻工序；冷凍劑、空調(diào)均可用。

  56.三氟甲烷-CHF3,（R-23），>99.999%,用于等離子干刻工序；低溫冷凍劑。

  57.三氟化氮-NF3>99.99%,用于等離子干刻工序；火箭推進劑、氟化劑。

  58.三氟嗅甲烷-CBrF3,（R13B1），>99.99%,用于等離子干刻工序；還用于空調(diào)、低溫冷凍及滅火劑。

  59.三氟化硼-11-B11F3,>99.99%,用于離子注入工序（天然硼的同位素，含11B8l%,10B19%。出售的11B是濃縮含有

  96%同位素BF3）；還用于制備光導纖維。

  60.四氟化碳-CF4,（R-14），>99.99%,用于等離子干刻工序；在很低溫度下作為低溫流體用；也用于中性及惰性氣體

  。

  61.四氟化硫-SF4,>98%,用于等離子干刻工序；氟化劑、表面處理劑。

  62.四氟化硅-SiF4,>99.99%,用于化學氣相淀積工序；制備氟硅酸及其鹽類。

  63.四氟化鍺-GeF4,>99.999%,用于離子注入工序。

  64.五氟化磷-PF5,>99.9%,用于離子注入、等離子干刻工序；另外，用作氟化劑，聚合、烴化及脫烴化反應、烴類裂

  化反應時作催化劑。

  65.五氟氯乙烷-C2ClF6,（R-115），>99.99%,用于等離子干刻工序；另外，作冷凍劑、煙霧噴氣劑。

  66.五氟化砷-AsF5,>99%,用于外延、離子注入工序，氟化劑。

  67.六氟乙烷-C2F6,（R-116），>99.99%,用于等離子干刻工序；用作冷卻、冷凍劑和空調(diào)；單體生產(chǎn)的原料；化學反應

  中的添氟劑、電器設備的絕緣劑。

  68.六氟化硫-SF6,>99.99%,用作標準氣；用于化學氣相淀積工序；由于在高電壓下具有很高的電阻，用作電器設備

  的絕緣劑；檢漏氣體，實驗室中作色譜儀的載氣。

  69.六氟化鎢-WF6,>99.99%,用于化學氣相淀積工序；強烈的氟化劑；也用作鎢載體。

  70.六氟化氧-（CF3）2O2,>99.99%,用于等離子干刻工序。

  71.六氟乙酰-（CF3）2CO,>99.99%,用途同（70）。

  72.六氟乙酞氧-（CF3CO）2O,>99.99%,用途同（70）。

  73.六氟化錸-ReF6,>97%,用于離子注入工序；氟化劑。

  74.八氟丙烷-C3F8,（R-218），>99.9%,用于等離子干刻工序；與氟利昂相混合作冷凍劑；高壓電的絕緣劑。

  75.八氟環(huán)丁烷-C4F8,（RC318），>99.99%,用于等離子干刻工序；用作冷卻劑、冷凍劑；作電器和電子設備的氣體絕

  緣。

  76.十二氟戊烷-C5F12,>99.9%,用于等離子干刻工序；也可與CF4相混用。

  77.三甲基鋁-（CH3）3Al,>99.999%,用于化學氣相淀積工序；金屬的有機合成。

  78.三甲基鎵-（CH3）3Ga>99.999%,用途同（77）。

  79.三甲基銻-（CH3）3Sb,>99.999%,用途同（77）。

  80.三甲基錮-（CH3）3In,>99.999%,用途同（77）。

  81.三乙基鋁-（C2H5）3Al,>99.999%,用途同（77）。

  82.三乙基鎵-（C2H5）3Ga,>99.999%,用途同（77）。

  83.四乙基鉛-（C2H5）4Pb,>99.999%,用于化學氣相淀積工序。

  84.丙烯腈-C3H3N,>99.9%,用于等離子干刻工序。

  85.1,1,2-三氯乙烯-C2HCl3,>99.99%,用作標準氣、校正氣、醫(yī)療氣；用于半導體器件制備工藝中熱氧化工序；另

  外，用于金屬的脫脂劑和脂肪、油、石蠟等萃取劑，衣服干洗，冷凍劑，殺菌劑。

  86.甲烷-CH4,99.999%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；作燃料、宇宙飛船中氣體電池。

  87.甲烷硫醇-CH3SH,>99.5%,用作標準氣、校正氣；用于有機合成；作為噴氣燃料添加劑，殺真菌劑和蛋氨酸的中間

  體。

  88.一甲胺-CH3NH2,>99%,用于硫化促進劑、藥物、染料和炸藥等，并作溶劑、有機合成、醋酸人造纖維。

  89.甲醇-CH3OH,>99.9%,用作標準氣，與空氣混合后作校正氣；用于制備甲醛和農(nóng)藥鄉(xiāng)用于有機物質(zhì)的萃取劑和酒

  精的變性劑。

  90.二甲胺-（CH3）2NH,>99%,用作抗氧化劑；在溶液中作浮洗。劑、汽油穩(wěn)定劑、橡膠加速劑等。

  91.二甲醚-（CH3）2O,>99.9%,在化學工業(yè)中用作配制合成橡膠和甲硫醚；用作甲基劑、萃取劑、溶劑；也用作制冷

  劑。

  92.乙炔-C2H2,>99.9%,用作標準氣、校正氣；化學工業(yè)中的中間體，如制備乙烯、乙醛、醋酸乙烯、氯乙烯、乙烯

  醚等；用于原子吸收光譜。

  93.乙烯-C2H4,>99.99%,用作在線儀表標準氣、標準氣、校正氣；是化學

  工業(yè)合成中的重要原料，生產(chǎn)塑料的中間體，生產(chǎn)乙醇、醋酸、氧化乙烯、氯乙烯、乙苯等的原料；也用于焊接和

  切割、冷凍劑、某些水果、蔬菜生長的加速劑。94.氧化乙烯-C2H4O,99.9%,用作標準氣、校正氣、醫(yī)療氣；與CO2

  、R11、R21相混合作消毒劑，文物保管，皮革消毒，清洗衣料均可采用；化學工業(yè)中用作中間體，生產(chǎn)液體或固體聚

  乙二醇、乙醇胺類等。

  95.溴代乙烯-C2H3Br,>99.9%,用作有機合成的中間體，用聚合法與共聚法來制備塑料。

  96.一乙胺-CH3CH2NH2,>99%,水溶液中含有70%乙胺，作為下列化學工業(yè)制備中的中間體：著色劑，電鍍池、硫化增

  速劑等；還用于制藥、表面活性劑、萃取劑。

  97.四氟乙烯-C2F4,>99%,在生產(chǎn)塑料時作為一種重要的單體，如泰氟隆等。

  98.乙醛-CH5CHO,>99.9%,用作校正氣；用于制備酷酸、醋醉、醋酸乙酷、正丁醇、合成樹脂等。

  99.二甲基二硫醚-CH3S2CH3,＞99.9%,用作校正氣、溶劑。

  100.二甲基硫醚-CH3SCH3>99.9%,用作校正氣、溶劑。

  101.乙醇-C2H5OH,>99.9%,用作校正氣；用于溶劑，制備染料、涂料、藥物、合成橡膠等。

  102.乙酰氯-CH3COCl,99.99%,用于乙?；瘎┖突瘜W試制。

  103.1-羥亞乙基-1,1雙磷酸-C2H8P2O7,>99.99%,簡稱HEDPA,用于特殊的洗滌、紡織漂白分離劑、磨料和環(huán)境衛(wèi)生

  ;在石油和氣田中用作防腐劑。

  104.環(huán)丙烷-（CH2）3,>99%,用于有機合成；醫(yī)藥上作麻醉劑。

  105.甲基乙炔-C3H4>99%,用作在線儀表標準氣、校正氣；用于制備丙酮；化學工業(yè)中作合成中間體。

  106.六氟丙酮-CF3COCF3,>99.9%,是強烈的反應氣，常與脂肪酮發(fā)生化學反應，用這些酮類可制備不同的產(chǎn)品，如穩(wěn)

  定的液體、溶劑、水泥、單體、共聚物，以及農(nóng)業(yè)及藥物產(chǎn)品。

  107.三甲胺-（CH3）3N,>99%,用作標準氣，溶液中含25%的三甲胺可作抗組胺治療處理；在化學工業(yè)中作中間體，用來

  生產(chǎn)殺蟲劑、潤濕劑、發(fā)泡劑、合成樹脂等表面活性劑。

  108.丙烯-C3H8,>99.9%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；在化學工業(yè)上用作制備異丙醇、氧化丙烯、氧基

  醇類、四氯化碳、聚丙烯等。

  109.丙二烯-C3H4,99%,在線儀表標準氣；用于有機合成中間體。

  110.氧化丙烯-C3H6O,>99.9%,（又稱1,2-環(huán)氧丙烷），用于制備丙二醇和泡沫塑料；也是醋酸纖維素、硝酸纖維素和

  樹脂等的溶劑。

  111.甲基乙烯醚-CH3COCH3,>99.5%,用作標準氣；用于有機合成中間體；塑料和合成樹脂制備時的原料及共聚物的

  生產(chǎn)。

  112.六氟丙烯-C3F6,>99.9%,用于有機合成中間體。

  113.丙酰氯-CH3CH2COCl,＞99.9%,用于制備鹽酸、丙酸；用作氧化劑。

  114.正丁烷-C4H10,>99.99%,用作標準氣、校正氣；用作燃料，商業(yè)上主要和異丁烷混合用；化學工業(yè)中作制備中間

  體：乙烯、丙烯、丁烯等；作煙霧噴射劑；充入溫度計球作標準蒸汽壓型的壓力表；與氦混合用作電離粒子計算器。

  115.異丁烷-iC4H10,>99.99%,用作標準氣、校正氣；用途同（114）。

  116.乙基乙炔C4H5,>99%,用作標準氣、校正氣；化學工業(yè)中作為合成中間體。

  117.環(huán)丁烷-（CH2）4,>99%,作為液體溶劑，或與其它溶劑混合使用；也可作為合成中間體。

  118.丁烯-1-C4H8,>99.9%,用作標準氣、校正氣；用于有機化合物的制備中間體；催化脫氫生成丁二烯。

  119.順丁烯-2C4H8,>99%,用作標準氣、校正氣；用于有機化合物的制備中間體；催化脫氫生成丁二烯、酸式硫酸鹽

  ,加水生成丁醇-2等；也可用作溶劑。

  120.反丁烯-2-C4H8,>99%,用作標準氣、校正氣；用途同（119）。

  121.順與反丁烯-2-C4H8,>99%,用作校正氣；用途同（119）。塑料和樹脂，生產(chǎn)尼龍-6;也是火箭燃料組成部分。

  122.1,3丁二烯-C4H6,>99%,用作校正氣；用聚合法和共聚法來生產(chǎn)合成橡膠、塑料和樹脂，生產(chǎn)尼龍-66;也是火箭

  燃料組成部分

  123.異丁烯-iC4H8,>99.9%,用作校正氣，用于有機中間體，使氧化產(chǎn)生丙酮和甲酸，在液相或氣相中催化使生成雙

  異丁烯等；也可用來制備合成橡膠，有很高的耐酸堿度；是良好的絕緣體。

  124.八氟-2-丁烯-C4H8（全氟丁烯），>99.5%,用于有機合成中間體。

  125.二甲乙基胺-（CH3）2NC2H5,99.99%,一接觸到氧化劑，反應劇烈；與二氧化碳混合，遇到汞會產(chǎn)生爆炸反應。

  126.正戊烷-C5H12,>99%,用作標準氣、校正氣；作溶劑及合成中間體。

  127.異戊烷-iC5H12,>99%,用作校正氣；用途同（126）。

  128.2,2二甲基丙烷-C5H12,（又叫新戊烷），>99.9%,是生產(chǎn)異丁烯的原料，用于生產(chǎn)合成丁烯橡膠。

  129.3-甲基-1-丁烯-C5H10,（甲基丁烯），>99.95%,用于有機合成中間體；也用于增加燃料的辛烷值；用于塑料的聚

  合。

  130.特戊酰氯-（CH3）3CCOCl,>99.99%,可制備氯化氫與特戊酸；可與強氧化劑反應。

  131.苯-C5H6,>99.999%,用作標準氣、校正氣、零點氣；是染料、塑料、合成像膠、合成樹脂、合成纖維、合成藥

  物和農(nóng)藥的原料。

  132.己烷-C6H14,>99.9%,用作標準氣、校正氣；作溶劑。

  133.三乙基鋁三氯-C6H15Al2Cl3,>99.99%,用于合成中間體；烯類聚合催化劑，芳烴衍生物聚合的催化劑。

  134.環(huán)己烷-C6H12,>99.99%,用作標準氣；用于制備環(huán)己醇和環(huán)己酮；用于合成耐6;在涂料工業(yè)中廣泛用作溶劑，也

  是樹脂、脂肪、石蠟、油類的極好溶劑。

  135.己二酞氯-ClOC（CH2）4COCl,>99.99%,用于制備氯化氫與肥酸。

  136.甲苯-C7H8,,>99.99%,用作零點氣、校正氣；用于制造糖精、染料、藥物和炸藥等；也用作溶劑。

  137.苯乙烯-C8H8,,>99.9%,用作校正氣；用于制樹脂、塑料、合成橡膠等。

  138.2-乙基己酰氯-C5H10,C2H5,COCl,>99.9%,可用于制備氯化氫和2-乙基己酸。

  139.辛酰氯-CH3,（CH2,）6COCl,>99.9%,是氧化劑；可用于制備鹽酸與辛酸。

  140.氨基咪哇酮-C9H15,N3O3,>99.9%,用作還原劑。

  141.壬酰氯-CCH3（CH2）7COCl,>99.9%,用于制備鹽酸與壬酸。

  142.新癸酰氯-C10H19OCl,>99.9%,用于制備鹽酸與新癸酸。

  143.三異丁基鋁-C12H27,Al,（簡稱TIBA），>99.99%,用于合成中間體，是聚合烯類和二烯類的催化劑。

  144.十二酰氯-CH3（CH2）10COCl,>99.9%,用于制備鹽酸與月桂酸。

  145.十八酰氯-CH3（CH2）18COCl,＞99.9%,用于制備鹽酸與硬醋酸。

  146.酚酞黃-C20H14O4,>99.9%,醫(yī)療用作瀉藥。

  147.空氣（或合成空氣）-21%O2,79%N2,用作零點氣，超零點級空氣中含CnHm<0.lppm,零點級空氣中含CnHm<0.2ppm

  。零點級空氣經(jīng)常用于色譜儀火焰離子化檢定器和總碳量分析儀中的氧化劑。

  148.仲氫-H2,>99.99%,用作火箭推進劑；核工業(yè)中用于氣泡室；冷電子工程低溫液態(tài)供固體電路研究用。

  149.純水-H2O,>99.9999%,用作標準氣、校正氣。

  150.氖-Ne,>99.999%,用作標準氣、特種混合氣；用于充發(fā)光燈泡、電子管、訊號燈、等離子體研究、熒光燈中啟

  動器、火花室、蓋革一彌勒管、

  激光器；用作低溫冷卻劑。

  151.氪氣-Kr,>99.995%,用作標準氣、特種混合氣、燈泡與電子工業(yè)用氣。

  152.氙氣-Xe,>99.995%,用作標準氣、特種混合氣，用于電光源、電子工業(yè)、充填閘流管和半波整流管。

  153.溴氣-Br2,>99.99%,用于化學工業(yè)中制備澳化氫和其它嗅化合物、氧化劑、實驗試劑；也用于染料和攝影工業(yè)

  。

  154.臭氧-O3,>99.99%,用作醫(yī)療氣，用于外科設備的消毒，人類用水和游泳池的凈化，工業(yè)廢品的處理，污物消毒；

  紡織纖維、紙漿和糖類的漂白，樟腦的制備，礦物油及其衍生物的凈化。

  155.氰氣-C2N2,>99%,用作焊接與切割耐熱金屬，與氧化劑、臭氧和氟氣混合后作火箭與導彈推進劑；醫(yī)學上作薰

  蒸劑；用于許多有機合成中的媒介物。

  156.氯化氰-ClCN,>99%,用于有機合成；與薰蒸氣體相混合可作熱源。

  157.氟化氫-HF,>99.9%,用于制備氟化物、氟氣；在異構(gòu)化、冷凝過程、聚合、干燥、水解反應等作為催化劑；在

  有些有機或無機反應中作為氟化劑。

  158.亞硝酰氯-NOCl,>99%,用于有機化合物的重氮化、硝化、氯化作用；也用于石油熟化劑。

  159.過氟二氯氧ClO3F,>99%,用于與氟鹵素類相混合，成為火箭發(fā)動機的液態(tài)氧化劑；也可供街族化合物作選擇性

  的氟化劑。

  160.碳酰氯-COCl2,（光氣），>99.9%,用于染料、藥物、除蕎劑、殺蟲劑、合成泡沫、樹脂和聚合等有機合成；還用

  作氯化劑。

  161.硫酰氟-SOF2,>99.5%,用于制備氟碳化合物；是優(yōu)良的殺蟲薰蒸劑，用于集裝箱、農(nóng)作物種子、林木種子的薰

  蒸，倉庫、古建筑、園林果木蛀干性害蟲及白蟻的防治，以及文物檔案的保護；也用作催化劑。

  162.羰基鎳-Ni（CO）4,>99.95%,用于制備高純鎳；制成金屬鏡及很薄的鎳箔；是碳化反應中有效的催化劑。

  163.羰基鐵-Fe（CO）5在有的文獻中寫成Fe（CO）4〕，>99.95%,主要作鐵的載體，在汽油中作抗爆劑。

  164.磷酸-H3PO4,>99.99%,用作校正氣；用于制磷酸鹽、甘油磷酸醋、磷酸按肥料；還作化學試劑。

  165.過氙酸鈉-Na4XeO6·8H2O,>99.99%,強氧化劑，可測定水中汞含量。

  166.一氧化碳-CO,>99.995%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；與氫和其它氣體混合作燃料氣；用于從含有

  鐵、鉆和銅的礦砂中回收鎳；也可用于制備酸類、醚類和醇類化學品。

  167.二氧化硫-SO2,>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用于啤酒、葡萄酒、肉類的防腐；硫化物和

  氧硫化物的制備；油類和食品的漂白劑；硫化紙漿的制備；制冰工業(yè)的冷卻劑。

  168.二氧化氮-NO2（N2O4），>99.9%,用作標準氣；用于一些氧化反應的催化劑；在丙烯酸鹽類精餾時用于防止聚合，

  用作有機物的硝化劑、氧化劑、火箭燃料一、面粉漂白劑。

  169.二氟化氧-OF2,>99.5%,用作氧化劑，是高能火箭推進劑系統(tǒng)中的組成部分。

  170.三氧化二氮-N2O3,>99.5%,與堿化合生成純堿亞硝酸鹽類；在特殊燃料系統(tǒng)中作氧化劑，也用于萜烯類的鑒定

  。

  171.三氧化氙-XeO3,>99.99%,用于通過氧化還原代替測定氧化溶液的含量（Xe6→Xe0）。

  172.三氧化硫-SO3,>99.99%,用于化學工業(yè)中制備硫酸與發(fā)煙硫酸；是硫化劑；也用于染料工業(yè)。

  173.三氟化氯-ClF3,>99.5%,用作火箭導彈推進劑，當接觸到燃料時（自發(fā)能力）能使其立刻開始反應；也用作油井

  管道切割劑，管道深達2公里也可用它來切斷管子。

  174.三氟化溴-BrF5,>99.5%,用作氟化劑和電解溶劑；也用于火箭導彈的推進劑。

  175.四氟化氮-N2F4,>99.9%,強氧化劑，可制備三氟化氮。

  176.四氟化氙-XeF4,>99.9%,可用于制備過氙化合物和三氧化氙溶液。

  177.五氟化溴-BrF5,>99%,用作氟化劑；也用于火箭導彈的推進劑。

  178.五氟化氯-ClF5,>99%,強烈的氧化劑，腐蝕性比三氟化氯小，可制備有機及無機氟化物；可作空間推進器的助燃

  劑。

  179.五氟化碘-IF5,>99%,用作氟化劑和燃燒劑。

  180.六氟化鉬-MoF5>99.9%,強烈的氟化劑，也用于鑰的載體。

  181.六氟化碲-TeF5,>99.9%,用作氟化劑和啼的載體。

  182.氟三氯甲烷（R11）-CCl3F,>99.95%,用于冷凍工業(yè)、空調(diào)、溶劑

  、滑冰場、鹽水和海水裝置、煙霧噴射劑、發(fā)泡劑、檢漏、紡織品的干洗。

  183.二氟二氯甲烷（R12）-CCl2F2,>99.9%,用作標準氣、校正氣；用于低溫空調(diào)、食品貯藏、冷凍工業(yè)、煙霧噴射

  劑、檢漏、膨脹劑、氣相絕緣材料。

  184.二氟氯溴甲烷（R12B1）-CBrClF2,>99.9%,用于石油、丙酮、二硫化碳生產(chǎn)中及電器著火時的滅火劑。

  185.二氟二溴甲烷（R12B2）-CBr2F2,>99.9%,用于快速聚合；用作滅火劑。

  186.二氯氟甲烷（R21）-CHCl2F,>99.9%,用于氣候很熱時的空調(diào)、冷凍劑、溶劑、煙霧噴射劑、化學媒介物。

  187.二氟氯甲烷（R22）-CHCiF2,>99.9%,用于冷卻和空調(diào)；在低溫噴霧特

  殊情況下作煙霧噴射劑；氟化聚合物的生產(chǎn)和檢漏。

  188.二氟甲烷（R32）-CH2F2,>99%,用作冷凍劑，與五氟氯乙烷（R115）混合后形成共沸混合物的冷凍劑。

  189.氯甲烷（R40）–CH3Cl,>99.5%,用作冷凍劑，局部麻醉處理；氣溶膠工業(yè)中當作噴射氣體；有機合成中用作甲基

  劑；作溶劑或萃取劑。

  190.溴甲烷（R40B1）-CH3Br,>99.9%,用于有機合成（著色劑）中甲基劑；低溫溶劑、冷凍劑；土壤與種子的薰蒸劑。

  191.氟甲烷（R41）-CH3F,>99.9%,以混合物用作非燃燒性的煙霧噴射劑。

  192.l,1,2,-三氯三氟乙烷（R113）-C2Cl2F3,（俗稱TTE），>99.9%,用作冷凍劑、傳熱介質(zhì)；制備三氟氯乙烯（R1113）

  的中間媒介物。

  193.1,2-二氯四氟乙烷（R114）-C2Cl2F4,>99%,用作冷凍、冷卻、空調(diào)，單獨與二氟二氯甲烷（R12）混合作為化妝品

  煙霧噴射劑。

  194.1,2-二嗅四氟乙烷（R114B2）-C2Br2F4,>99.5%,用作溶劑、滅火劑，與其它氟碳化合物相混合作噴射劑。

  195.五氟氯乙烷（R115）-C2ClF5,>99.9%,用作冷凍劑、煙霧噴射劑。

  196.二氟氯乙烷（R142B）-C2H3ClF2,>99%,用作冷凍劑、溶劑、與非燃燒性的鹵碳類化合物相混合作噴射劑。

  197.三氟乙烷（R143）-C2H3F3,>99.9%,用作冷凍劑。

  198.1,1-二氟乙烷（R152A）-C2H4F2,>99%,用作冷凍劑、煙霧噴射劑、有機合成中間媒介物。

  199.氯乙烷（R160）-C2H3Cl,>99.9%,用于局部麻醉的醫(yī)療處理，外科和皮膚科的噴霧醫(yī)療；在染料工業(yè)中當作乙基

  劑、冷凍劑、溶劑、殺蟲劑的生產(chǎn)。

  200.氟乙烷（R161）-C2H5F,>99.9%,用于合成中間媒介物。

  201.R-12與R152A共沸混合物（R500）-CCl2F2/C2HF5,>99.9%,用作冷凍劑、空調(diào)。

  202.R-22與R115共沸混合物（R502）-CHClF2/C2H4F2,>99.9%,用作冷凍劑、空調(diào)、噴霧。

  203.R-23與R13共沸混合物（R503）-CClF3/CHF3,>99.9%,用作冷凍劑、空調(diào)。

  204.全氟丁烷（R601）-C4F10,>99%,用作絕緣氣體。

  205.三氟氯乙烯（R1113）-C2ClF3,>99%,用于制備潤滑脂、油類、

  蠟類、塑料的聚合劑，聚三氟氯乙烯的單體。

  206.三氟溴乙烯（R113B1）-C2BrF3,>99%,用于聚合反應和化學中間體。

  207.二氟氯乙烯（R1122）-C2HClF2,＞99.9%,用于化學合成中間體。

  208.1,1-二氟乙烷（R1132A）C2H2F2,>99%,是一個很重要的單體，用于生產(chǎn)塑料及彈性體。

  209.氯乙烯（R1140）-C2H3Cl,>99.9%,用作標準氣；用作聚合劑、有機合成的中間體。

  210.氟乙烯（R1140）-C2H3F,>99.9%,用作聚合劑、有機合成的中間體。

  211.氦-3–He3,>99.99%,充計數(shù)管；作稀釋制冷機超低溫冷源，可達4.5×10-3K。

  212.氦-4-He4,>99.99%,在空間應用的低溫火箭燃料、核反應堆中重水及所有常溫與低溫的液體均可用氦-4作壓

  送氣。

  213,氘-D2,>99.95%,在核工業(yè)研究中應用在氖核加速器中作為拋射體；當放射丫能射線時作為中子源；在研究化學

  反應時，包括氫化合物，可作為軌跡用；用于生產(chǎn)重水（D2O）。

  214.氚-T2,>99.95%,用作標準氣，控制每升為1000微居里，有很廣泛的活潑性，與氖氬混合作為載氣，可用于檢測微

  量氮氣及其它稀有氣體?！?/span>

  215.氧-18-O218,>99%,可制備H218O、D218O、S18O2。

  216.氮-15-N215,>99%,可制備15NH3、16NO、15NO等。

  217.氬-36–Ar36,>99.99%,計量值用。

  218.氬-40-Ar40,>99.99%,計量值用。

  219.氖-20Ne20,>99.99%,計量值用。

  220.氖-22Ne22,>99.99%,計量值用。

  221.氪-85-Kr85,>99.99%,標準氣，控制每升為10微居里，充燈泡用。

  222.氪-86-Kr86,>99.9%用作標準氣。

  223.氙-133-Xe133,>99.9%,充燈泡用。

  224.碳-13-C13,>99%,可制備13CO2、13C6H8、13CO、13COS、13C2H4等。

  225.碳-14-C14,>99%,用作標準氣，控制每升為100微居里。

  226.碳-18-C18,>99%>99%,可制備C18O2、C18O。

  227.硫-35-S35,>99%,用作標準氣，控制每升為100微居里。